CVD/ALD(シーブイディー/エーエルディー)
CVD/ALD(シーブイディー/エーエルディー) 英語表記: CVD/ALD 概要 CVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長)とALD(Atomic Layer Deposition:原子 […]
CVD/ALD(シーブイディー/エーエルディー) 英語表記: CVD/ALD 概要 CVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長)とALD(Atomic Layer Deposition:原子 […]
イオン注入 英語表記: Ion Implantation 概要 イオン注入は、半導体集積回路(IC)を製造する前工程において、ウェハの特定領域に意図的に不純物原子(ドーパント)を打ち込み、半導体の電気的な性質を精密に制御 […]
フォトリソグラフィ 英語表記: Photolithography 概要 フォトリソグラフィは、半導体製造プロセスにおける「前工程」の中核をなす技術であり、LSI(大規模集積回路)の設計図である微細な回路パターンを、シリコ […]