前工程

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イオン注入

イオン注入 英語表記: Ion Implantation 概要 イオン注入は、半導体集積回路(IC)を製造する前工程において、ウェハの特定領域に意図的に不純物原子(ドーパント)を打ち込み、半導体の電気的な性質を精密に制御 […]

フォトリソグラフィ

フォトリソグラフィ 英語表記: Photolithography 概要 フォトリソグラフィは、半導体製造プロセスにおける「前工程」の中核をなす技術であり、LSI(大規模集積回路)の設計図である微細な回路パターンを、シリコ […]