3nm プロセス(サンナノメートルプロセス)
3nm プロセス(サンナノメートルプロセス) 英語表記: 3nm Process 概要 3nm プロセスとは、半導体集積回路(LSI)を製造する際のプロセスルールにおける、現時点で最先端に近い世代を示す技術指標です。この […]
3nm プロセス(サンナノメートルプロセス) 英語表記: 3nm Process 概要 3nm プロセスとは、半導体集積回路(LSI)を製造する際のプロセスルールにおける、現時点で最先端に近い世代を示す技術指標です。この […]
5nm プロセス(ゴナノメートルプロセス) 英語表記: 5nm Process 概要 5nmプロセスとは、半導体の集積回路(IC)を製造する際の設計基準、すなわち「プロセスルール」の一つを指します。この技術は、トランジス […]
7nm プロセス(ナナノメートルプロセス) 英語表記: 7nm Process 概要 「7nm プロセス」とは、半導体の集積回路を製造する際の「プロセスルール」の一つであり、LSIチップ上のトランジスタの最小加工寸法が7 […]